المبادئ والعمليات والأساليب والمعدات لتنظيف الرقاقة

يعد التنظيف الرطب (Wet Clean) أحد الخطوات المهمة في عمليات تصنيع أشباه الموصلات، ويهدف إلى إزالة الملوثات المختلفة من سطح الرقاقة لضمان إمكانية تنفيذ خطوات العملية اللاحقة على سطح نظيف.

1 (1)

مع استمرار انكماش حجم أجهزة أشباه الموصلات وتزايد متطلبات الدقة، أصبحت المتطلبات التقنية لعمليات تنظيف الرقاقة أكثر صرامة. حتى أصغر الجسيمات، والمواد العضوية، والأيونات المعدنية، وبقايا الأكاسيد على سطح الرقاقة، يمكن أن تؤثر بشكل كبير على أداء الجهاز، مما يؤثر على إنتاجية وموثوقية أجهزة أشباه الموصلات.

المبادئ الأساسية لتنظيف الرقاقة

إن جوهر تنظيف الرقاقة يكمن في إزالة الملوثات المختلفة بشكل فعال من سطح الرقاقة من خلال الطرق الفيزيائية والكيميائية وغيرها من الطرق لضمان أن الرقاقة لها سطح نظيف مناسب للمعالجة اللاحقة.

1 (2)

نوع التلوث

التأثيرات الرئيسية على خصائص الجهاز

تلوث المادة  

عيوب النمط

 

 

عيوب زرع الأيونات

 

 

عيوب انهيار الفيلم العازل

 

التلوث المعدني المعادن القلوية  

عدم استقرار ترانزستور MOS

 

 

انهيار/تدهور غشاء أكسيد البوابة

 

المعادن الثقيلة  

زيادة تيار التسرب العكسي لوصلة PN

 

 

عيوب انهيار غشاء أكسيد البوابة

 

 

تدهور عمر الناقل الأقلية

 

 

عيب توليد طبقة إثارة الأكسيد

 

التلوث الكيميائي المواد العضوية  

عيوب انهيار غشاء أكسيد البوابة

 

 

اختلافات فيلم الترسيب الكيميائي للبخار (أوقات الحضانة)

 

 

اختلافات سمك طبقة الأكسيد الحراري (الأكسدة المتسارعة)

 

 

حدوث الضباب (الرقاقة، العدسة، المرآة، القناع، الشبكة)

 

المنشطات غير العضوية (B، P)  

ترانزستور MOS تحولات Vth

 

 

اختلافات مقاومة ركيزة السيليكون وصفائح البولي سيليكون عالية المقاومة

 

القواعد غير العضوية (الأمينات والأمونيا) والأحماض (أكاسيد الكبريت)  

تدهور دقة المقاومات المكبرة كيميائيًا

 

 

حدوث تلوث الجسيمات والضباب بسبب تكوين الملح

 

أغشية أكسيدية طبيعية وكيميائية بسبب الرطوبة والهواء  

زيادة مقاومة التلامس

 

 

انهيار/تدهور غشاء أكسيد البوابة

 

على وجه التحديد، تتضمن أهداف عملية تنظيف الرقاقة ما يلي:

إزالة الجسيمات: تُستخدم طرق فيزيائية أو كيميائية لإزالة الجسيمات الصغيرة الملتصقة بسطح الرقاقة. يصعب إزالة الجسيمات الصغيرة بسبب القوى الكهروستاتيكية القوية بينها وبين سطح الرقاقة، مما يتطلب معالجة خاصة.

إزالة المواد العضوية: قد تلتصق الملوثات العضوية، مثل الشحوم وبقايا المواد المقاومة للضوء، بسطح الرقاقة. تُزال هذه الملوثات عادةً باستخدام عوامل مؤكسدة قوية أو مذيبات.

إزالة الأيونات المعدنية: قد تُسبب بقايا الأيونات المعدنية على سطح الرقاقة تدهورًا في الأداء الكهربائي، بل وتؤثر على خطوات المعالجة اللاحقة. لذلك، تُستخدم محاليل كيميائية مُخصصة لإزالة هذه الأيونات.

إزالة الأكسيد: تتطلب بعض العمليات خلو سطح الرقاقة من طبقات الأكسيد، مثل أكسيد السيليكون. في هذه الحالات، يجب إزالة طبقات الأكسيد الطبيعية خلال خطوات تنظيف معينة.

يتمثل التحدي الذي تواجهه تقنية تنظيف الرقاقة في إزالة الملوثات بكفاءة دون التأثير سلبًا على سطح الرقاقة، مثل منع خشونة السطح أو التآكل أو أي ضرر مادي آخر.

2. تدفق عملية تنظيف الرقاقة

تتضمن عملية تنظيف الرقاقة عادةً خطوات متعددة لضمان الإزالة الكاملة للملوثات والحصول على سطح نظيف تمامًا.

1 (3)

الشكل: مقارنة بين التنظيف بالدفعات والتنظيف باستخدام رقاقة واحدة

تتضمن عملية تنظيف الرقاقة النموذجية الخطوات الرئيسية التالية:

1. التنظيف المسبق (التنظيف المسبق)

الغرض من التنظيف المسبق هو إزالة الملوثات السائبة والجسيمات الكبيرة من سطح الرقاقة، ويتم ذلك عادةً من خلال الشطف بالماء منزوع الأيونات (DI Water) والتنظيف بالموجات فوق الصوتية. يزيل الماء منزوع الأيونات الجسيمات والشوائب المذابة من سطح الرقاقة في البداية، بينما يستخدم التنظيف بالموجات فوق الصوتية تأثيرات التجويف لكسر الرابطة بين الجسيمات وسطح الرقاقة، مما يسهل إزالتها.

2. التنظيف الكيميائي

يعد التنظيف الكيميائي أحد الخطوات الأساسية في عملية تنظيف الرقاقة، باستخدام المحاليل الكيميائية لإزالة المواد العضوية، والأيونات المعدنية، والأكاسيد من سطح الرقاقة.

إزالة المواد العضوية: عادةً ما يُستخدم الأسيتون أو خليط الأمونيا/بيروكسيد (SC-1) لإذابة وأكسدة الملوثات العضوية. النسبة النموذجية لمحلول SC-1 هي NH₄OH.

₂O₂

₂O = 1:1:5، مع درجة حرارة عمل تبلغ حوالي 20 درجة مئوية.

إزالة أيونات المعادن: تُستخدم خلائط حمض النيتريك أو حمض الهيدروكلوريك/بيروكسيد (SC-2) لإزالة أيونات المعادن من سطح الرقاقة. النسبة النموذجية لمحلول SC-2 هي حمض الهيدروكلوريك.

₂O₂

₂O = 1:1:6، مع الحفاظ على درجة الحرارة عند حوالي 80 درجة مئوية.

إزالة الأكسيد: في بعض العمليات، يلزم إزالة طبقة الأكسيد الأصلية من سطح الرقاقة، ويُستخدم محلول حمض الهيدروفلوريك (HF). النسبة النموذجية لمحلول حمض الهيدروفلوريك هي HF.

₂O = 1:50، ويمكن استخدامه في درجة حرارة الغرفة.

3. التنظيف النهائي

بعد التنظيف الكيميائي، تخضع الرقاقات عادةً لمرحلة تنظيف نهائية لضمان عدم وجود أي بقايا كيميائية على سطحها. يستخدم التنظيف النهائي بشكل أساسي الماء منزوع الأيونات للشطف الشامل. بالإضافة إلى ذلك، يُستخدم التنظيف بماء الأوزون (O₃/H₂O) لإزالة أي ملوثات متبقية من سطح الرقاقة.

4. التجفيف

يجب تجفيف الرقاقات المُنظَّفة بسرعة لمنع ظهور علامات الماء أو إعادة التصاق الملوثات. تشمل طرق التجفيف الشائعة التجفيف بالدوران والتطهير بالنيتروجين. يزيل الأول الرطوبة من سطح الرقاقة بالدوران بسرعات عالية، بينما يضمن الثاني التجفيف الكامل بنفخ غاز النيتروجين الجاف على سطح الرقاقة.

الملوث

اسم إجراء التنظيف

وصف الخليط الكيميائي

المواد الكيميائية

       
الجسيمات سمكة البيرانا (SPM) حمض الكبريتيك/بيروكسيد الهيدروجين/ماء ثنائي الهيدرات H2SO4/H2O2/H2O 3-4:1؛ 90 درجة مئوية
SC-1 (APM) هيدروكسيد الأمونيوم/بيروكسيد الهيدروجين/ماء ثنائي الهيدرات NH4OH/H2O2/H2O 1:4:20؛ 80 درجة مئوية
المعادن (ليس النحاس) SC-2 (HPM) حمض الهيدروكلوريك/بيروكسيد الهيدروجين/ماء ثنائي الهيدروكسيد حمض الهيدروكلوريك/H2O2/H2O1:1:6؛ 85 درجة مئوية
سمكة البيرانا (SPM) حمض الكبريتيك/بيروكسيد الهيدروجين/ماء ثنائي الهيدرات H2SO4/H2O2/H2O3-4:1؛ 90 درجة مئوية
حمى الضنك النزفية حمض الهيدروفلوريك المخفف/ماء DI (لن يزيل النحاس) HF/H2O1:50
المواد العضوية سمكة البيرانا (SPM) حمض الكبريتيك/بيروكسيد الهيدروجين/ماء ثنائي الهيدرات H2SO4/H2O2/H2O 3-4:1؛ 90 درجة مئوية
SC-1 (APM) هيدروكسيد الأمونيوم/بيروكسيد الهيدروجين/ماء ثنائي الهيدرات NH4OH/H2O2/H2O 1:4:20؛ 80 درجة مئوية
دي او 3 الأوزون في الماء منزوع الأيونات مخاليط مُحسَّنة لـ O3/H2O
أكسيد أصلي حمى الضنك النزفية حمض الهيدروفلوريك المخفف/ماء ثنائي التكافؤ HF/H2O 1:100
بي اتش اف حمض الهيدروفلوريك المخزن NH4F/HF/H2O

3. طرق تنظيف الرقاقة الشائعة

1. طريقة تنظيف RCA

تُعد طريقة تنظيف RCA من أكثر تقنيات تنظيف الرقائق شيوعًا في صناعة أشباه الموصلات، وقد طورتها شركة RCA منذ أكثر من 40 عامًا. تُستخدم هذه الطريقة بشكل أساسي لإزالة الملوثات العضوية وشوائب الأيونات المعدنية، ويمكن إتمامها على خطوتين: SC-1 (التنظيف القياسي 1) وSC-2 (التنظيف القياسي 2).

تنظيف SC-1: تُستخدم هذه الخطوة بشكل رئيسي لإزالة الملوثات والجزيئات العضوية. المحلول عبارة عن خليط من الأمونيا وبيروكسيد الهيدروجين والماء، مما يُشكّل طبقة رقيقة من أكسيد السيليكون على سطح الرقاقة.

تنظيف SC-2: تُستخدم هذه الخطوة أساسًا لإزالة ملوثات الأيونات المعدنية، باستخدام مزيج من حمض الهيدروكلوريك وبيروكسيد الهيدروجين والماء. يترك هذا المزيج طبقة رقيقة من التخميل على سطح الرقاقة لمنع إعادة التلوث.

1 (4)

2. طريقة تنظيف سمكة البيرانا (تنظيف سمكة البيرانا بالحفر)

طريقة تنظيف البيرانا تقنية فعّالة للغاية لإزالة المواد العضوية، باستخدام مزيج من حمض الكبريتيك وبيروكسيد الهيدروجين، بنسبة 3:1 أو 4:1 عادةً. بفضل خصائصه التأكسدية القوية، يُمكنه إزالة كميات كبيرة من المواد العضوية والملوثات العنيدة. تتطلب هذه الطريقة رقابة صارمة على الظروف، وخاصةً من حيث درجة الحرارة والتركيز، لتجنب إتلاف الرقاقة.

1 (5)

يستخدم التنظيف بالموجات فوق الصوتية تأثير التجويف الناتج عن موجات صوتية عالية التردد في سائل لإزالة الملوثات من سطح الرقاقة. مقارنةً بالتنظيف بالموجات فوق الصوتية التقليدي، يعمل التنظيف بالموجات فوق الصوتية بتردد أعلى، مما يتيح إزالة الجسيمات التي يقل حجمها عن الميكرون بكفاءة أكبر دون التسبب في تلف سطح الرقاقة.

1 (6)

4. تنظيف الأوزون

تعتمد تقنية تنظيف الأوزون على خصائصه المؤكسدة القوية لتحليل وإزالة الملوثات العضوية من سطح الرقاقة، وتحويلها في النهاية إلى ثاني أكسيد الكربون وماء غير ضارين. لا تتطلب هذه الطريقة استخدام كواشف كيميائية باهظة الثمن، وتُقلل من التلوث البيئي، مما يجعلها تقنية ناشئة في مجال تنظيف الرقاقة.

1 (7)

4. معدات عملية تنظيف الرقاقة

لضمان كفاءة وسلامة عمليات تنظيف الرقاقات، تُستخدم مجموعة متنوعة من معدات التنظيف المتطورة في تصنيع أشباه الموصلات. من أهمها:

1. معدات التنظيف الرطب

تشمل معدات التنظيف الرطب خزانات غمر متنوعة، وخزانات تنظيف بالموجات فوق الصوتية، ومجففات دوارة. تجمع هذه الأجهزة بين القوى الميكانيكية والكواشف الكيميائية لإزالة الملوثات من سطح الرقاقة. عادةً ما تكون خزانات الغمر مزودة بأنظمة تحكم في درجة الحرارة لضمان استقرار وفعالية المحاليل الكيميائية.

2. معدات التنظيف الجاف

تشمل معدات التنظيف الجاف بشكل رئيسي منظفات البلازما، التي تستخدم جزيئات عالية الطاقة في البلازما للتفاعل مع سطح الرقاقة وإزالة الرواسب منها. يُعد تنظيف البلازما مناسبًا بشكل خاص للعمليات التي تتطلب الحفاظ على سلامة السطح دون ترك أي رواسب كيميائية.

3. أنظمة التنظيف الآلية

مع التوسع المستمر في إنتاج أشباه الموصلات، أصبحت أنظمة التنظيف الآلية الخيار الأمثل لتنظيف الرقاقات على نطاق واسع. غالبًا ما تتضمن هذه الأنظمة آليات نقل آلية، وأنظمة تنظيف متعددة الخزانات، وأنظمة تحكم دقيقة لضمان نتائج تنظيف متسقة لكل رقاقة.

5. الاتجاهات المستقبلية

مع استمرار انكماش أجهزة أشباه الموصلات، تتطور تقنية تنظيف الرقاقات نحو حلول أكثر كفاءةً وصديقةً للبيئة. وستركز تقنيات التنظيف المستقبلية على:

إزالة الجسيمات بحجم دون النانومتر: يمكن لتقنيات التنظيف الحالية التعامل مع الجسيمات بحجم النانومتر، ولكن مع المزيد من التخفيض في حجم الجهاز، فإن إزالة الجسيمات بحجم دون النانومتر سوف تصبح تحديًا جديدًا.

التنظيف الأخضر والصديق للبيئة: سيصبح تقليل استخدام المواد الكيميائية الضارة بالبيئة وتطوير طرق تنظيف أكثر صداقة للبيئة، مثل التنظيف بالأوزون والتنظيف بالموجات فوق الصوتية، أمرًا مهمًا بشكل متزايد.

مستويات أعلى من الأتمتة والذكاء: ستتيح الأنظمة الذكية مراقبة وتعديل المعلمات المختلفة في الوقت الفعلي أثناء عملية التنظيف، مما يؤدي إلى تحسين فعالية التنظيف وكفاءة الإنتاج بشكل أكبر.

تُعدّ تقنية تنظيف الرقاقات خطوةً أساسيةً في تصنيع أشباه الموصلات، وتلعب دورًا حيويًا في ضمان نظافة أسطح الرقاقات في العمليات اللاحقة. ويؤدي الجمع بين طرق التنظيف المختلفة إلى إزالة الملوثات بفعالية، مما يوفر سطحًا نظيفًا للركيزة للمراحل التالية. ومع تطور التكنولوجيا، سيستمر تحسين عمليات التنظيف لتلبية متطلبات الدقة العالية وانخفاض معدلات العيوب في تصنيع أشباه الموصلات.


وقت النشر: ٨ أكتوبر ٢٠٢٤