المبادئ والعمليات والأساليب والمعدات لتنظيف الرقاقات

يعد التنظيف الرطب (Wet Clean) إحدى الخطوات الحاسمة في عمليات تصنيع أشباه الموصلات، والتي تهدف إلى إزالة الملوثات المختلفة من سطح الرقاقة لضمان إمكانية تنفيذ خطوات العملية اللاحقة على سطح نظيف.

1 (1)

مع استمرار تقلص حجم أجهزة أشباه الموصلات وزيادة متطلبات الدقة، أصبحت المتطلبات الفنية لعمليات تنظيف الرقاقات صارمة بشكل متزايد. حتى أصغر الجزيئات أو المواد العضوية أو الأيونات المعدنية أو بقايا الأكسيد الموجودة على سطح الرقاقة يمكن أن تؤثر بشكل كبير على أداء الجهاز، وبالتالي تؤثر على إنتاجية وموثوقية أجهزة أشباه الموصلات.

المبادئ الأساسية لتنظيف الرقاقة

يكمن جوهر تنظيف الرقاقة في إزالة الملوثات المختلفة بشكل فعال من سطح الرقاقة من خلال الطرق الفيزيائية والكيميائية وغيرها من الطرق لضمان أن الرقاقة لها سطح نظيف مناسب للمعالجة اللاحقة.

1 (2)

نوع التلوث

التأثيرات الرئيسية على خصائص الجهاز

تلوث المادة  

عيوب النمط

 

 

عيوب زرع الأيونات

 

 

عيوب انهيار الفيلم العازل

 

التلوث المعدني المعادن القلوية  

عدم استقرار ترانزستور MOS

 

 

انهيار / تدهور فيلم أكسيد البوابة

 

المعادن الثقيلة  

زيادة تيار التسرب العكسي لوصلة PN

 

 

عيوب انهيار فيلم أكسيد البوابة

 

 

تدهور عمر الناقل الأقلية

 

 

توليد خلل في طبقة إثارة الأكسيد

 

التلوث الكيميائي المواد العضوية  

عيوب انهيار فيلم أكسيد البوابة

 

 

اختلافات فيلم الأمراض القلبية الوعائية (أوقات الحضانة)

 

 

اختلافات سمك طبقة الأكسيد الحراري (الأكسدة المتسارعة)

 

 

حدوث ضباب (رقاقة، عدسة، مرآة، قناع، شبكاني)

 

المنشطات غير العضوية (B، P)  

التحولات Vth الترانزستور MOS

 

 

ركيزة Si واختلافات مقاومة صفائح البولي سيليكون عالية المقاومة

 

القواعد غير العضوية (الأمينات والأمونيا) والأحماض (أكسيد الكبريت)  

تدهور دقة المقاومات المضخمة كيميائيًا

 

 

حدوث تلوث بالجسيمات والضباب بسبب توليد الملح

 

أفلام الأكسيد الأصلي والكيميائي بسبب الرطوبة والهواء  

زيادة مقاومة الاتصال

 

 

انهيار / تدهور فيلم أكسيد البوابة

 

على وجه التحديد، تشمل أهداف عملية تنظيف الرقاقة ما يلي:

إزالة الجسيمات: استخدام الطرق الفيزيائية أو الكيميائية لإزالة الجزيئات الصغيرة الملتصقة بسطح الرقاقة. يصعب إزالة الجسيمات الصغيرة بسبب القوى الكهروستاتيكية القوية بينها وبين سطح الرقاقة، مما يتطلب معالجة خاصة.

إزالة المواد العضوية: قد تلتصق الملوثات العضوية مثل الشحوم وبقايا مقاوم الضوء بسطح الرقاقة. تتم إزالة هذه الملوثات عادةً باستخدام عوامل مؤكسدة قوية أو مذيبات.

إزالة الأيونات المعدنية: يمكن أن تؤدي بقايا الأيونات المعدنية الموجودة على سطح الرقاقة إلى انخفاض الأداء الكهربائي وحتى التأثير على خطوات المعالجة اللاحقة. ولذلك، يتم استخدام محاليل كيميائية محددة لإزالة هذه الأيونات.

إزالة الأكسيد: تتطلب بعض العمليات أن يكون سطح الرقاقة خاليًا من طبقات الأكسيد، مثل أكسيد السيليكون. في مثل هذه الحالات، يجب إزالة طبقات الأكسيد الطبيعي أثناء خطوات تنظيف معينة.

يكمن التحدي المتمثل في تكنولوجيا تنظيف الرقاقة في إزالة الملوثات بكفاءة دون التأثير سلبًا على سطح الرقاقة، مثل منع خشونة السطح أو التآكل أو أي أضرار مادية أخرى.

2. تدفق عملية تنظيف الرقاقة

تتضمن عملية تنظيف الرقاقة عادةً خطوات متعددة لضمان الإزالة الكاملة للملوثات وتحقيق سطح نظيف تمامًا.

1 (3)

الشكل: مقارنة بين تنظيف النوع الدفعي والرقاقة المفردة

تتضمن عملية تنظيف الرقاقة النموذجية الخطوات الرئيسية التالية:

1. التنظيف المسبق (التنظيف المسبق)

الغرض من التنظيف المسبق هو إزالة الملوثات السائبة والجزيئات الكبيرة من سطح الرقاقة، والذي يتم تحقيقه عادةً من خلال الشطف بالماء منزوع الأيونات (DI Water) والتنظيف بالموجات فوق الصوتية. يمكن للمياه منزوعة الأيونات في البداية إزالة الجزيئات والشوائب الذائبة من سطح الرقاقة، بينما يستخدم التنظيف بالموجات فوق الصوتية تأثيرات التجويف لكسر الرابطة بين الجزيئات وسطح الرقاقة، مما يسهل إزاحتها.

2. التنظيف الكيميائي

يعد التنظيف الكيميائي أحد الخطوات الأساسية في عملية تنظيف الرقاقة، وذلك باستخدام المحاليل الكيميائية لإزالة المواد العضوية والأيونات المعدنية والأكاسيد من سطح الرقاقة.

إزالة المواد العضوية: عادة، يتم استخدام الأسيتون أو خليط الأمونيا/بيروكسيد (SC-1) لإذابة وأكسدة الملوثات العضوية. النسبة النموذجية لمحلول SC-1 هي NH₄OH

₂O₂

₂O = 1:1:5، مع درجة حرارة عمل تبلغ حوالي 20 درجة مئوية.

إزالة الأيونات المعدنية: يتم استخدام حمض النيتريك أو حمض الهيدروكلوريك/مخاليط البيروكسيد (SC-2) لإزالة الأيونات المعدنية من سطح الرقاقة. النسبة النموذجية لمحلول SC-2 هي حمض الهيدروكلوريك

₂O₂

₂O = 1:1:6، مع الحفاظ على درجة الحرارة عند حوالي 80 درجة مئوية.

إزالة الأكسيد: في بعض العمليات، يلزم إزالة طبقة الأكسيد الأصلي من سطح الرقاقة، حيث يتم استخدام محلول حمض الهيدروفلوريك (HF). النسبة النموذجية لمحلول HF هي HF

₂O = 1:50، ويمكن استخدامه في درجة حرارة الغرفة.

3. التنظيف النهائي

بعد التنظيف الكيميائي، تخضع الرقائق عادة لخطوة التنظيف النهائية لضمان عدم بقاء أي بقايا كيميائية على السطح. يستخدم التنظيف النهائي بشكل أساسي الماء منزوع الأيونات للشطف الشامل. بالإضافة إلى ذلك، يتم استخدام تنظيف ماء الأوزون (O₃/H₂O) لإزالة أي ملوثات متبقية من سطح الرقاقة.

4. التجفيف

يجب تجفيف الرقائق المنظفة بسرعة لمنع ظهور العلامات المائية أو إعادة التصاق الملوثات. تشمل طرق التجفيف الشائعة التجفيف بالدوران وتطهير النيتروجين. يقوم الأول بإزالة الرطوبة من سطح الرقاقة عن طريق الدوران بسرعات عالية، بينما يضمن الأخير التجفيف الكامل عن طريق نفخ غاز النيتروجين الجاف عبر سطح الرقاقة.

ملوث

اسم إجراء التنظيف

وصف الخليط الكيميائي

المواد الكيميائية

       
الجسيمات سمكة البيرانا (SPM) حامض الكبريتيك / بيروكسيد الهيدروجين / ماء DI H2SO4/H2O2/H2O 3-4:1؛ 90 درجة مئوية
SC-1 (APM) هيدروكسيد الأمونيوم / بيروكسيد الهيدروجين / ماء DI NH4OH/H2O2/H2O 1:4:20؛ 80 درجة مئوية
المعادن (وليس النحاس) SC-2 (HPM) حمض الهيدروكلوريك / بيروكسيد الهيدروجين / ماء DI حمض الهيدروكلوريك/H2O2/H2O1:1:6؛ 85 درجة مئوية
سمكة البيرانا (SPM) حامض الكبريتيك / بيروكسيد الهيدروجين / ماء DI H2SO4/H2O2/H2O3-4:1؛ 90 درجة مئوية
DHF حمض الهيدروفلوريك المخفف/ماء DI (لن يزيل النحاس) التردد العالي/H2O1:50
المواد العضوية سمكة البيرانا (SPM) حامض الكبريتيك / بيروكسيد الهيدروجين / ماء DI H2SO4/H2O2/H2O 3-4:1؛ 90 درجة مئوية
SC-1 (APM) هيدروكسيد الأمونيوم / بيروكسيد الهيدروجين / ماء DI NH4OH/H2O2/H2O 1:4:20؛ 80 درجة مئوية
ديو3 الأوزون في الماء منزوع الأيونات مخاليط محسنة O3/H2O
أكسيد الأصلي DHF تمييع حمض الهيدروفلوريك/ماء DI عالية التردد/H2O 1:100
بي اتش اف حمض الهيدروفلوريك المخزن NH4F/HF/H2O

3. طرق تنظيف الرقائق الشائعة

1. طريقة تنظيف RCA

تعد طريقة تنظيف RCA واحدة من أكثر تقنيات تنظيف الرقاقات كلاسيكية في صناعة أشباه الموصلات، والتي طورتها شركة RCA منذ أكثر من 40 عامًا. تُستخدم هذه الطريقة في المقام الأول لإزالة الملوثات العضوية وشوائب الأيونات المعدنية ويمكن إكمالها في خطوتين: SC-1 (التنظيف القياسي 1) وSC-2 (التنظيف القياسي 2).

تنظيف SC-1: تستخدم هذه الخطوة بشكل أساسي لإزالة الملوثات العضوية والجسيمات. المحلول عبارة عن خليط من الأمونيا وبيروكسيد الهيدروجين والماء، والذي يشكل طبقة رقيقة من أكسيد السيليكون على سطح الرقاقة.

تنظيف SC-2: تستخدم هذه الخطوة بشكل أساسي لإزالة الملوثات الأيونية المعدنية باستخدام خليط من حمض الهيدروكلوريك وبيروكسيد الهيدروجين والماء. إنه يترك طبقة تخميل رقيقة على سطح الرقاقة لمنع إعادة التلوث.

1 (4)

2. طريقة تنظيف سمكة البيرانا (تنظيف حفر سمكة البيرانا)

طريقة تنظيف سمكة البيرانا هي تقنية فعالة للغاية لإزالة المواد العضوية، وذلك باستخدام خليط من حمض الكبريتيك وبيروكسيد الهيدروجين، عادة بنسبة 3:1 أو 4:1. بسبب خصائص الأكسدة القوية للغاية لهذا المحلول، يمكنه إزالة كمية كبيرة من المواد العضوية والملوثات العنيدة. تتطلب هذه الطريقة رقابة صارمة على الظروف، خاصة من حيث درجة الحرارة والتركيز، لتجنب إتلاف الرقاقة.

1 (5)

يستخدم التنظيف بالموجات فوق الصوتية تأثير التجويف الناتج عن الموجات الصوتية عالية التردد في السائل لإزالة الملوثات من سطح الرقاقة. بالمقارنة مع التنظيف التقليدي بالموجات فوق الصوتية، يعمل التنظيف بالموجات فوق الصوتية بتردد أعلى، مما يتيح إزالة أكثر كفاءة للجسيمات ذات الحجم الصغير دون التسبب في تلف سطح الرقاقة.

1 (6)

4. تنظيف الأوزون

تستخدم تقنية تنظيف الأوزون خصائص الأكسدة القوية للأوزون لتحلل وإزالة الملوثات العضوية من سطح الرقاقة، وتحويلها في النهاية إلى ثاني أكسيد الكربون وماء غير ضارين. ولا تتطلب هذه الطريقة استخدام كواشف كيميائية باهظة الثمن وتسبب تلوثًا بيئيًا أقل، مما يجعلها تقنية ناشئة في مجال تنظيف الرقائق.

1 (7)

4. معدات عملية تنظيف الويفر

لضمان كفاءة وسلامة عمليات تنظيف الرقائق، يتم استخدام مجموعة متنوعة من معدات التنظيف المتقدمة في تصنيع أشباه الموصلات. الأنواع الرئيسية تشمل:

1. معدات التنظيف الرطب

تشتمل معدات التنظيف الرطب على خزانات غاطسة مختلفة، وخزانات تنظيف بالموجات فوق الصوتية، ومجففات دوران. تجمع هذه الأجهزة بين القوى الميكانيكية والكواشف الكيميائية لإزالة الملوثات من سطح الرقاقة. يتم تجهيز خزانات الغمر عادة بأنظمة التحكم في درجة الحرارة لضمان استقرار وفعالية المحاليل الكيميائية.

2. معدات التنظيف الجاف

تشتمل معدات التنظيف الجاف بشكل أساسي على منظفات البلازما، والتي تستخدم جزيئات عالية الطاقة في البلازما للتفاعل مع البقايا وإزالتها من سطح الرقاقة. يعد التنظيف بالبلازما مناسبًا بشكل خاص للعمليات التي تتطلب الحفاظ على سلامة السطح دون إدخال بقايا كيميائية.

3. أنظمة التنظيف الآلي

مع التوسع المستمر في إنتاج أشباه الموصلات، أصبحت أنظمة التنظيف الآلية هي الخيار المفضل لتنظيف الرقائق على نطاق واسع. تشتمل هذه الأنظمة غالبًا على آليات نقل آلية، وأنظمة تنظيف متعددة الخزانات، وأنظمة تحكم دقيقة لضمان نتائج تنظيف متسقة لكل رقاقة.

5. الاتجاهات المستقبلية

مع استمرار تقلص أجهزة أشباه الموصلات، تتطور تكنولوجيا تنظيف الرقائق نحو حلول أكثر كفاءة وصديقة للبيئة. سوف تركز تقنيات التنظيف المستقبلية على:

إزالة الجسيمات دون النانومتر: يمكن لتقنيات التنظيف الحالية التعامل مع الجسيمات بحجم نانومتر، ولكن مع مزيد من التخفيض في حجم الجهاز، ستصبح إزالة الجسيمات دون النانومترية تحديًا جديدًا.

التنظيف الأخضر والصديق للبيئة: سيصبح تقليل استخدام المواد الكيميائية الضارة بالبيئة وتطوير طرق تنظيف أكثر صديقة للبيئة، مثل تنظيف الأوزون والتنظيف بالموجات فوق الصوتية، ذا أهمية متزايدة.

مستويات أعلى من الأتمتة والذكاء: ستمكن الأنظمة الذكية من المراقبة في الوقت الفعلي وتعديل المعلمات المختلفة أثناء عملية التنظيف، مما يزيد من تحسين فعالية التنظيف وكفاءة الإنتاج.

تلعب تقنية تنظيف الرقاقات، باعتبارها خطوة حاسمة في تصنيع أشباه الموصلات، دورًا حيويًا في ضمان نظافة أسطح الرقاقات للعمليات اللاحقة. يؤدي الجمع بين طرق التنظيف المختلفة إلى إزالة الملوثات بشكل فعال، مما يوفر سطحًا نظيفًا للخطوات التالية. مع تقدم التكنولوجيا، سيستمر تحسين عمليات التنظيف لتلبية متطلبات الدقة الأعلى وانخفاض معدلات العيوب في تصنيع أشباه الموصلات.


وقت النشر: 08 أكتوبر 2024